间接照明缓存

虽然不完全正确,但在Eevee中,所有不是直接从灯光物体发出的照明都被认为是间接照明。这意味着远方的HDRI照明(或世界)被认为是间接照明。使用Emission(发射)节点的网格物体也被认为是间接照明。

在Eevee中,间接照明分为两个部分:漫反射和高光反射。两者都有不同的需求和代表性。为了提高效率,间接照明数据根据需要预先计算到静态照明缓存中。

到目前为止,光缓存是静态的,需要在渲染之前计算。它不能被每帧更新(除非通过脚本)。这个限制正在被解决中,并会在将来的版本中移除。

只能查看独立照明。这就是为什么Reflection Planes(反光板)不存储在光缓存中的原因。

烘焙过程中使用的是当前活动视图层中的可见物体和集合。

光反弹

为了使光线在大环境中反弹, 光烘焙过程可以运行多次, 同时将以前的烘焙结果注入烘焙。整体烘培时间或多或少会因为反弹次数而倍增。

光反弹只涉及漫反射照明。

间接照明

参考

面板

渲染 ‣ 间接光照明

自动烘焙

启用此选项将在更改探针时触发烘焙。定位探针物体时很有用。

漫反射

烘焙漫反射辐照度时计算的反弹次数。

立方体贴图尺寸

立方体反射贴图的尺寸。

漫反射遮蔽尺寸

每个辐照度样本还存储一个阴影图, 用于最大限度地减少间接光线泄漏。此参数定义此阴影贴图的大小。

辐照度平滑

平滑辐照度插值,但引入光出血。辐照度能见度项可以使照明不在某些表面上平滑地插值。这减轻插值了权重。

钳制光泽

钳制像素强度,以减少反射立方体内光泽反射的噪点(0为禁用)。

过滤质量

在立方体贴图过滤期间增大采样以删除瑕疵。目前只对立方体贴图有效

立方体贴图显示

在3D视图中直接显示缓存中存在的反射立方体贴图。

辐照度显示

在3D视图中显示在缓存中存在的辐照度样本。

Note

缓存数据显示仅在视口中工作, 并且仅在视图在渲染模式下的外观开发模式下使用世界照明。