Reflection Planes(反射平面)
これらの特殊なタイプのProbe(プローブ)オブジェクトは、滑らかな平面に適しています。基本的に、カメラを反転させてシーン全体をキャプチャします。
反射平面を使用すると、ビューにReflection Planes(反射平面)がある回数だけシーンをレンダリングする必要があるため、レンダリング時間に非常に負担がかかります。
Screen Space Reflection(スクリーンスペース反射)が有効になっていない限り、Reflection Planes(反射平面)は粗さが0前後のスペキュラーサーフェスでのみ機能します。
Screen Space Reflection(スクリーンスペース反射)が有効になっている場合、Reflection Planes(反射平面)はサポートバッファとして機能します。これにより、トレースプロセスが高速化され、ビュー空間から欠落しているデータが完成します。これにより、粗さが中程度で法線が乱れている影響を受けたサーフェス(つまり法線マップ)の反射がより正確になります。
注釈
Reflection Plane(反射平面)の反射内では、Subsurface Scattering(SSS)、Screen Space Reflections(スクリーンスペース反射)、Volumetrics(ボリューメトリック)はサポートされていません。
Placement(配置)
Backface Culling(裏面を非表示)が有効になっていない場合、Reflection Plane(反射平面)を平面にスナップすると、サーフェスの下側が効果的にキャプチャされます。
Reflection Plane(反射平面)をサーフェス上に手動で移動して、キャプチャに表示されないようにすることができます。または、床オブジェクトをコレクション内に配置し、このコレクションをReflection Plane(反射平面)のプローブ設定内のVisibility Collection(コレクションの可視設定)(反転)として使用することもできます。
参照
- Panel(パネル)
- Distance(距離)
プローブオブジェクトは、近くのサーフェスの照明にのみ影響します。この影響ゾーンは、Distance(距離)パラメーターとオブジェクトのスケーリングによって定義されます。影響距離は、プローブの種類によって、微妙に異なります。
Reflection Planes(反射平面)の場合、影響距離は平面からの距離です。法線がReflection Plane(反射平面)と位置合わせされているサーフェスのみが、キャプチャされた反射を受け取ります。
- Falloff(減衰)
プローブの影響が直線的に減衰する影響距離のパーセンテージ。また、反射を受け取るために平面に整列する必要のあるシェーディング法線の量を定義します。
- Clipping Offset(クリッピングオフセット)
シーンをキャプチャするときに、手前のクリップが平面からどれだけ下にあるかを定義します。これを増やすと、反射接触の問題を修正できます。
- Visibility Collection(コレクションの可視設定)
場合によっては、ライトプローブのキャプチャされた照明に表示されるオブジェクトを制限すると便利です。例えば、キャプチャポイントに近すぎるオブジェクトは除外したほうがよい場合があります。これは、コレクションの可視設定が行うことです。このプローブがシーンをキャプチャするとき、このコレクションにあるオブジェクトのみが表示されます。
この動作を反転して、このコレクション内のオブジェクトを効果的に非表示にするオプションもあります。
注釈
これは単なるフィルターオプションです。つまり、レンダリング時にオブジェクトが表示されない場合、プローブのレンダリング中には表示されません。
注釈
制限により、このオプションを使用して重複オブジェクトを非表示にすることはできません。
Viewport Display(ビューポート表示)
参照
- Panel(パネル)
- Influence(影響)
3D Viewport(3Dビューポート)で影響範囲を表示します。
- Arrow Size(矢印のサイズ)
反射平面の法線を示す矢印のサイズ。
- Show Preview Plane(プレビュー平面を表示)
キャプチャした反射画像を3D Viewport(3Dビューポート)の完全反射平面に表示します。