渲染烘焙¶

参考

面板:	渲染 ‣ 烘培

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

建立¶

烘焙需要模型具有UV贴图,以及具有烘焙的图像的图像纹理节点。活动(最后选择)图像纹理节点作为烘焙目标。

在强光/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如环境光遮蔽或来自平面光源的柔和阴影。如果为主要物体烘焙环境光遮蔽，则不必为完整渲染启用它，从而节省渲染时间。

在Cycles中使用渲染设置（采样、反弹、……）进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。

合成结果

烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光，特殊效果。

通过相应组合可以单独切换以形成最终地图。

环境光遮蔽

烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

阴影

烘焙阴影及灯光。

法线

烘焙不同空间的法线。

法线空间

法线可以在不同的空间中烘培：

Swizzle

轴要烘培成红色，绿色和蓝色的通道。

在材质中你也可以选择相同的空间坐标，也就是图像纹理选项中， 法线贴图 设置的下面。为了得到的正确的结果，这里的设置应该和烘焙中的设置相同。

UV

仅烘焙材质的颜色和纹理，不含有着色信息。

自发光

烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

环境光

烘焙从物体中心所观察到的环境。

漫射，光泽，传递，表面细分

烘培材质的漫射，光泽，传递和表面细分的通道。

选择为活动物体: 烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹，你可以通过调节 光线距离 或是 罩体挤出 （取决于你是否使用罩体）来调节光线的起点。对于更多的控制，你可以通过指定 罩体物体 来实现。

Note

内存用量

每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存，为了避免内存不足而造成的崩溃，在烘焙之前，可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置，也会影响到内存的使用。比如分的块越大，CPU占用的越少，而内存则会占用的更多（不管是CPU，还是GPU）。

罩体: 光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。
光线距离: 在使用所选物体>活动物体时，控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用罩体时可用。
罩体偏移: 在使用 所选物体->活动物体 和罩体来控制光线向内投射的距离时。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割（如应用掉边线分割修改器）也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。
罩体: 指定作为罩体的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

Note

当挤出低模不能获得良好的结果时，你可以创建一个低模的副本，并将其做成罩体。而且两者要有相同的拓扑才行（相同的面数和面顺序）。