渲染烘焙¶

参考

面板:	渲染 ‣ 烘培

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

建立¶

烘焙需要模型具有UV贴图,以及具有烘焙的图像的图像纹理节点。活动(最后选择)图像纹理节点作为烘焙目标。

在强光/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如环境光遮蔽或来自平面光源的柔和阴影。如果为主要物体烘焙环境光遮蔽，则不必为完整渲染启用它，从而节省渲染时间。

在Cycles中使用渲染设置(采样、反弹、……)进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。

合成结果

烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光，特殊效果。

通过相应组合可以单独切换以形成最终地图。

环境光遮蔽

烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

阴影

烘焙阴影及灯光。

法线

烘焙不同空间的法线。

法线空间

法线可以在不同的空间中烘培：

Swizzle

轴要烘培成红色，绿色和蓝色的通道。

在材质中你也可以选择相同的空间坐标，也就是图像纹理选项中， 法线贴图 设置的下面。为了得到的正确的结果，这里的设置应该和烘焙中的设置相同。

UV

仅烘焙材质的颜色和纹理，不含有着色信息。

自发光

烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

环境光

Bakes the environment (i.e. the world surface shader defined for the scene) onto the selected object(s) as seen by rays cast from the world origin.

漫射，光泽，传递，表面细分

烘培材质的漫射，光泽，传递和表面细分的通道。

选择为活动物体: 烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹，你可以通过调节 光线距离 或是 罩体挤出 (取决于你是否使用罩体)来调节光线的起点。对于更多的控制，你可以通过指定 罩体物体 来实现。

Note

内存用量

每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存，为了避免内存不足而造成的崩溃，在烘焙之前，可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置，也会影响到内存的使用。比如分的块越大，CPU占用的越少，而内存则会占用的更多(不管是CPU，还是GPU)。

罩体: 光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动(指定要用的物体)或自动(调整光线距离)创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。
光线距离: 在使用所选物体>活动物体时，控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用罩体时可用。
罩体偏移: 在使用 所选物体->活动物体 和罩体来控制光线向内投射的距离时。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割(如应用掉边线分割修改器)也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。
罩体: 指定作为罩体的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

Note

当挤出低模不能获得良好的结果时，你可以创建一个低模的副本，并将其做成罩体。而且两者要有相同的拓扑才行(相同的面数和面顺序)。