立方体（盒）反射¶
间接反射被存储在立方体贴图阵列中。从哪里对场景光照进行采样，然后在哪里应用，这些属性都通过立方体反射物体来定义。
See also
屏幕空间反射 比立方体反射要精确更多。启用后，优先使用屏幕空间反射，只有在光线无法采样时则使用立方体反射作补充。
如果启用 环境光遮蔽，将以物理合理的方式应用于间接光反射。
Note
The cube probes are encoded into tetrahedral maps. Some distortions may occur on the negative Z hemisphere. Those are more visible with higher roughness values.（立方体探头被编码为四面体映射。Z向为负的半球可能会出现一些畸变，粗糙度越高越明显。）
混合¶
来自立方体反射的光照强度会向外逐渐衰弱，直到边界。它们会衰减至融入到场景光照或另一个立方体反射光照。如果多个立方体光照重叠，则优先考虑体积较小的立方体反射。如果物体不在任何立方体反射影响范围内，或者间接光没有烘焙，将使用场景立方体对其进行着色。
参考
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- 距离
探头物体仅影响其邻近表面的反射，由距离参数与探头大小决定影响区域。不同探头类型间有细微差别。
对于立方体反射，受影响的空间可以是一个以探头原心为中心的盒形或球形。
- 衰减
- 影响距离的百分比，探头的作用将沿其线性衰减。
- 强度
- 被记录光照的强度系数。将该参数值设为1.0之外的值都不是物理正确的。可以将它调整达到艺术目的。
- 剪裁范围
- 定义探头探测场景来烘焙贴图的最小距离和最大距离范围。
- 可见性集合
当物体距离探头过近时，会影响探头探测场景来烘焙光照贴图。可见性集合可以使仅该集合（群组）物体可被探头采集到光照信息。
另有一个选项可以反转该集合, 并隐藏此集合中的物体，不会被探头采集光照信息烘焙到反射贴图中。
Note
这只是一个过滤选项。如果一个物体在渲染时不可见，那么它在探头烘焙中也是不可见的。
自定义视差¶
参考
| 面板: |
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默认情况下, 影响体积也是视差体积。视差体积是记录的光照投射的体积。它应该大致适合周围。在某些情况下, 最好在不触及影响参数的情况下调整视差体积。在这种情况下, 只需启用 自定义视差 并单独修改视差体积的形状和距离。
视图显示¶
- 影响
- 在3D视图中显示影响边界。靠内的边界是衰减开始的地方。
- 剪裁范围
- 在3D 视图中显示裁减距离。
- 视差
- 在3D 视图中显示 自定义视差 外形。