渲染烘焙
Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：
烘焙纹理，如基础颜色或法线贴图，用于导出到游戏引擎。
烘焙环境光遮蔽或程序纹理，作为纹理绘制或进一步编辑的基础。
创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。
配置
烘焙要求网格有一个UV贴图，以及一个颜色属性或图像纹理节点，并有一个要烘焙的图像。活动 图像纹理 节点或 颜色属性 被用来作为烘焙目标。
在密集的光线/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如AO或来自区域灯的软阴影。如果你为主要物体烘焙AO，你就不必在整个渲染过程中启用它，从而节省渲染时间。Cycles使用渲染设置（采样、反弹……）进行烘焙。这样一来，烘焙出来的纹理的质量应该和你从渲染场景中得到的结果一致。
设置
参考
- 面板:
- 烘焙
执行烘焙操作。
- 按多级精度进行烘焙
直接从多用途对象烘焙。
- 烘焙类型
烘焙通道的类型。
- 合成结果:
烘焙除镜面之外的所有材质、纹理和光照。对合并后的通道有贡献的通道可以被单独切换，以形成最终的贴图。
- 环境光遮蔽:
烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。
- 阴影:
烘焙阴影及灯光。
- 法向:
烘焙不同空间的法线。
- UV:
映射 UV 坐标，用于表示纹理映射至网格上的位置。这通过图像的红色和绿色通道表示，蓝色通道的编码为常值1，但不保存任何信息。
- 粗糙度:
烘焙材料的粗糙度通道。
- 自发光:
烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。
- 环境:
将环境（用于场景的世界表面着色器）烘焙到选定对象上，如从世界原点投射的光线。
- 漫反射:
烘焙材质的漫射通道。
- 光泽:
烘焙材料的光泽度。
- 透射:
烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。
- 观察方位
反射射线方向的来源。
- 表面上方:
从表面上方投射光线。
- 活动摄像机:
使用活动摄像机的位置投射光线。
影响
合成结果
- 光照
- 直接光
增加直接的照明度。
- 间接光
添加间接照明贡献。
- 贡献
- 漫反射
增加漫反射度。
- 光泽
添加光泽度。
- 透射
增加传输贡献。
- 环境光遮蔽
添加环境光屏蔽贡献。
- 自发光
增加发光度。
散射、光泽度、透射
- 贡献
-
- 颜色
为通道上色。
如果仅选择了 "颜色"，您将获得通过颜色，这是表面的一个属性，与采样细化无关。
如果未选择 "颜色"，您将获得灰度的直接和/或间接贡献。
如果选择了 颜色 和 直接 或 间接，则直接和/或间接贡献将着色。
法向
- 空间
法线可以在不同的空间中烘焙：
对于材质，可以在现有 法线贴图 设置旁边的图像纹理选项中选择相同的空间。为了获得正确的结果，此处的设置应与用于烘焙的设置相匹配。
- 物体:
对象坐标中的法线，与对象变换无关，但取决于变形。
- 切向 (正切):
切线空间坐标中的法线，与对象转换和变形无关。这是默认设置，在大多数情况下都是正确的选择，因为法线贴图也可以用于动画对象。
- 重排 R、G、B
轴要烘焙成红色，绿色和蓝色的通道。
所选物体 到 活动物体
将选定物体表面上的着色烘焙到活动物体。光线从低多边形物体向内投射到高多边形物体。如果高多边形物体不完全受低多边形物体的影响，则可以使用 最大光线距离 或 挤出 *（取决于您是否使用罩体）来调整光线起点。为了获得更多控制，您可以使用 *罩体物体。
Note
用于烘焙的每个对象都有一个 CPU 固定内存占用空间。为了避免因内存不足而崩溃，可以在烘焙过程之前将高多边形物体连接起来。
- 罩体
光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。
- 罩式物体
指定作为 罩体 的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。
- 罩体偏移
Distance to use for the inward ray cast when using Selected to Active and Cage. The inward rays are cast from a version of the active object with disabled Edge Split Modifiers. Hard splits (e.g. when the Edge Split Modifier is applied) should be avoided because they will lead to non-smooth normals around the edges.
Note
当拉伸的基础网格未产生良好的结果时，您可以创建基础网格的副本并将其修改为用作 笼。两个网格需要具有相同的拓扑（面数和面顺序）。
- 最大光线距离
使用 选定物体 到 活动物体 时用于向内光线投射的距离。射线距离仅在不使用 笼子 时可用。
输出
边距
在对图像进行烘焙时，默认情况下会在UV "孤岛" 周围生成边缘。这对于避免由于纹理过滤和mipmap造成的UV接缝处的不连续是很重要的。
- 类型
生成边距的方法。
- 扩选:
通过重复边缘上的像素来扩展图像。
- 相邻面:
使用相邻面的像素跨越UV接缝来填充边际。
- 尺寸
边距的大小（以像素为单位）。