缩裹修改器¶
缩裹 修改器允许一个物体 "收缩" 到另一个物体的表面上。它移动物体的每个顶点到所给网格的最近的表面（使用三种可用的方法之一）。
它可以应用到网格，晶格，曲线，表面和文本。
选项¶
最近的表面点模式下的囊缩修改器。
- 目标
- 收缩目标，即收缩或被包裹的网格。
- 偏移量
- 必须与计算的目标位置保持的距离。
- 顶点组
- 该顶点组控制每个顶点是否移动以及移动多少到其目标位置。如果一个顶点不是该组的成员，它不会产生位移（等同于权重0）。
模式¶
此选项指定用于为修改对象的每个顶点确定目标表面上最近的点的方法。一些选项将向面板添加一些额外的、特定的控件。
最近的表面点¶
这将选择囊缩目标表面上最近的点。
投影¶
投影模式
这将会沿着选择的轴投射顶点，直到它们碰到收缩的目标。不会碰到收缩目标的顶点将保持原来的位置。
- 表面细分等级
- 在使用投射模式计算囊缩之前，会（临时）将 Catmull-Clark 细分应用于修改后的对象。
- 限制
- 原顶点和表面之间存在距离限制。如果距离大于这个限制，顶点不会投射到表面.
- X/Y/Z轴
- 沿着修改对象的局部轴进行投影。这些选项可以相互组合，生成一个投影的 "平均轴" 。如果没有选择，则使用法线方向。
- 负向/正向
- 这允许您沿着选定的轴选择所允许的囊缩的方向。如果两个选项都启用了，修改器将尝试两种方式并选择最近的那种。
- 剔除面：关闭/前/后
- 该选项允许您阻断任何投影到目标面 "前面" (或 "背面" )的面。面的 "侧面" 是由它的法线决定的(在前面的面是 "法线" 的来源)。
- 反向剔除
- 如果启用了 剔除面 ，并且开启沿轴的 负向 ，则可以使用此选项来为 负向 反转 前 或 后 剔除选项。这在两个方向投影时都很有用。
- 辅助目标
- 要投射的另一个对象。
目标法线投影¶
目标法线投影模式
这种模式类似于 最近的表面点 ，但会产生更平滑的投影，与之对应的是更慢的速度。
它不是寻找最近的点，而是寻找拥有插值光滑法线指向或远离原始顶点位置的最近顶点。非流形边界边缘被特别处理为在所有垂直方向上发射法线的无限薄的圆柱体，忽略平直着色和自动平滑设置。
吸附模式¶
大多数模式支持附加设置，以控制顶点如何移动到上面描述的方法选择的目标点。只有当*Offset*不为零时，一些选项才会不同。
- 曲面上
- 顶点总是移动的。偏移量沿着连接原始顶点和朝向原始位置的所选目标点的投影线。
- 表面外围
- 类似 曲面上 ，但偏移总是在目标的外部。
- 表面上方
- 类似 曲面上 ，但是偏移量是沿着目标的平滑法线的。
- 向内
- 如果顶点已经在目标内，则不会移动。偏移量使允许的体积沿投影线向内囊缩。
- 向外
- 如果顶点已经在目标之外，则不会移动它。偏移量沿着投影线向外扩展在外部的体积。
向外 和 向内 选项可用于非常粗略的碰撞检测。在目标网格中，内与外的确定是基于目标法线的，接近90度和更锐利的角度的地方并不总是稳定的。
See also
囊缩约束 。