渲染烘焙

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途，最常见的是：

  • 烘焙纹理，如基础颜色或法线贴图，用于导出到游戏引擎。

  • 烘焙环境光遮蔽或程序纹理，作为纹理绘制或进一步编辑的基础。

  • 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。

配置

烘焙要求网格有一个 UV 贴图，以及一个颜色属性或图像纹理节点，并有一个要烘焙的图像。活动图像纹理节点或颜色属性被用来作为烘焙目标。

在密集的光线/阴影解决方案中使用渲染烘焙，例如AO或来自区域灯的软阴影。如果你为主要物体烘焙AO，你就不必在整个渲染过程中启用它，从而节省渲染时间。Cycles使用渲染设置（采样、反弹……）进行烘焙。这样一来，烘焙出来的纹理的质量应该和你从渲染场景中得到的结果一致。

设置

参考

面板:

渲染 ‣ 烘焙

烘焙

根据当前设置执行烘焙操作。

按多级精度进行烘焙

直接从具有多级精度修改器的网格烘焙 法线 或 置换 贴图。

此方法会比较修改器的两个精度级别：

  • 视口层级 用作 低分辨率 基础网格。

  • 渲染层级 用作 高分辨率 细节网格。

最终生成的烘焙图呈现了这两个层级之间的差异，从而能够将精细的雕刻信息以纹理贴图的形式捕捉。

烘焙类型

确定从多级精度修改器中提取的表面信息类型。更多信息请参阅烘焙类型。

法向:

烘焙表面法线方向在两个层级的面之间的差异。

置换:

烘焙高度差异，作为灰度置换贴图。

矢量置换:

烘焙完整的三维位置偏移，作为矢量置换贴图。

烘焙类型

烘焙通道的类型。

合并结果:

烘焙除高光之外的所有材质、纹理和光照。对合并后的通道有贡献的通道可以被单独切换，以形成最终的贴图。

环境光遮蔽:

烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽，忽略场景中的其他灯光。

阴影:

烘焙阴影及灯光。

位置:

将世界空间位置数据烘焙到 RGB 通道中。每个像素编码场景中表面点的相对于场景原点的 XYZ 位置。

法向:

将法线烘焙为 RGB 图像。

UV:

映射的 UV 坐标，用于表示纹理在网格上的映射位置。该信息通过图像的红绿通道表示，蓝通道被编码为恒定值 1，不包含任何信息。

粗糙度:

烘焙材质的粗糙度通道。

自发光:

烘焙自发光，或是材质的辉光颜色。

环境:

将环境（用于场景的世界表面着色器）烘焙到选定对象上，如从世界原点投射的光线。

漫反射:

烘焙材质的漫射通道。

光泽:

烘焙材质的光泽度通道。

透射:

烘焙材质的透射通道。

观察方位

反射光线方向的来源。

表面上方:

从表面上方投射光线。

活动摄像机:

使用活动摄像机的位置投射光线。

影响

合并结果

光照
直接光

添加直接照明影响。

间接光

添加间接照明影响。

贡献
漫反射

添加漫反射影响。

光泽

添加光泽影响。

透射

添加透射影响。

自发光

添加发光度影响。

漫射、光泽度、透射

贡献
直接光

参见上文。

间接光

参见上文。

颜色

为通道上色。

  • 如果仅选择了 颜色，您将获得通过颜色，这是表面的一个属性，与采样细化无关。

  • 如果未选择 颜色，您将获得灰度的直接和/或间接贡献。

  • 如果选择了 颜色 和 直接 或 间接，则直接和/或间接贡献将着色。

法向

空间

法线可以在不同的空间中烘焙：

对于材质，可以在现有 法线贴图 设置旁边的图像纹理选项中选择相同的空间。为了获得正确的结果，此处的设置应与用于烘焙的设置相匹配。

物体:

对象坐标中的法线，与对象变换无关，但取决于变形。

切向 (正切):

切线空间坐标中的法线，与对象转换和变形无关。这是默认设置，在大多数情况下都是正确的选择，因为法线贴图也可以用于动画对象。

重排 R、G、B

轴要烘焙成红色，绿色和蓝色的通道。

所选物体 到 活动物体

将选定物体表面上的着色烘焙到活动物体。光线从低多边形物体向内投射到高多边形物体。如果高多边形物体不完全受低多边形物体的影响，则可以使用 最大光线距离 或 挤出（取决于您是否使用罩体）来调整光线起点。为了获得更多控制，您可以使用 罩体。

Note

用于烘焙的每个对象都有一个 CPU 固定内存占用空间。为了避免因内存不足而崩溃，可以在烘焙过程之前将高多边形物体连接起来。

罩体

光线会从罩体投射到活动的物体，罩体是指从低模通过手动（指定要用的物体）或自动（调整光线距离）创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体，光线会依循网格的法线，这在边线的地方会产生一些小的瑕疵，为了避免这些瑕疵，可以围着边线添加额外的循环边，在烘焙平面时，这或许是一个不错的方法。

罩式物体

指定作为 罩体 的物体，以此替代活动物体的罩体挤出。

罩体挤出

使用 所选物体到活动物体 和 罩体 时，用于投射内向光线的距离。内向光线是从一个禁用了拆边修改器的活动物体版本投射出来的。应避免硬分割（例如应用了拆边修改器时），因为这会导致边缘周围的法线不平滑。

Note

当挤出的基础网格未产生良好的结果时，您可以创建基础网格的副本并将其修改为用作 罩体。两个网格需要具有相同的拓扑（面数和面顺序）。

最大光线距离

使用 所选物体到活动物体 时用于向内光线投射的距离。射线距离仅在不使用 罩体 时可用。

输出

目标

在哪里导出烘焙图。

图像纹理:

将烘焙结果应用到与活动且选定的图像纹理节点关联的图像数据块。如果材质不包含活动且选定的图像纹理节点，则不会对此材质进行任何烘焙。

清空图像

选择该项时，在渲染烘焙前会先清空图像。

活动颜色属性:

烘焙到活动网格上的活动颜色属性层。注意，活动物体必须是网格，因为其他物体类型没有颜色属性。

边距

在对图像进行烘焙时，默认情况下会在UV "孤岛" 周围生成边缘。这对于避免由于纹理过滤和mipmap造成的UV接缝处的不连续是很重要的。

类型

生成边距的方法。

扩选:

将边界处像素向外扩展。

相邻面:

使用相邻面的像素跨越UV接缝来填充边际。

尺寸

边距的大小（以像素为单位）。