采样

EEVEE 使用称为时间性抗锯齿（TAA）的过程来减少锯齿。由于 TAA 是基于样本，因此样本越多，以性能为代价就会减少锯齿。

参考

面板:

渲染 ‣ 采样

视图

采样

在3D视图中使用的样本数。当设置样本数为零时，3D视图中将会不断采样。

时序重投影

移动视图或者播放动画期间降低噪点。可能会留下一些重影。

抖动阴影

在视图中启用抖动阴影。抖动阴影在最终渲染时始终处于启用状态。这同样会影响所有透明阴影。

渲染

采样

在最终渲染中使用的样本数。

阴影

光线数量

每个光源需要追踪的光线数量。数值越高，由随机阴影采样引起的噪点就越少。

步数 (阶梯)

每条阴影光线对应的阴影贴图采样数。步数越高，阴影越柔和，但计算开销也越大。

体积阴影

体积物体周围的近似光吸收。这会使体积物体更不容易透光。这是一个非常消耗资源的选项，并有局限性。

步数 (阶梯)

计算体积阴影的步数。

See also

体积限制。

分辨率

阴影贴图的分辨率百分比。

高级

光照阈值

光源对照明产生影响所需的最小光强。用于计算切断光源影响的距离。数值越低，性能越好。

See also

自定义距离会覆盖此设置。