间接光照明#
虽然不是严格正确，但在EEVEE中，所有不是从灯光物体直接出来的光照被视为间接照明。 包括 HDRI 照明（或世界照明）被视为间接光照明。 同样，使用Emission节点的网格对象也被视为间接光照明。
在EEVEE中，间接照明分为两个部分：漫反射和高光反射。两者都有不同的需求和代表性。为了提高效率，间接照明数据根据需要预先计算到静态照明缓存中。
到目前为止，光缓存是静态的，需要在渲染之前计算。它不能被每帧更新（除非通过脚本）。这个限制正在解决中，并会在将来的版本中移除。
只能查看独立照明。这就是为什么Reflection Planes（反光板）不存储在光缓存中的原因。
烘焙过程中使用的是当前活动视图层中的可见物体和集合。
需要多次烘焙来完成光线在场景中的反弹计算，并将上次烘焙结果合成。整体烘焙时间受反弹次数影响而倍增。
光线反弹只限于漫反射照明。
参考
- 面板:
- 自动烘焙
启用此选项将在更改探针时触发烘焙。调节探针物体时很有用。
- 漫射反弹
烘焙漫反射辐照度时光线的反弹次数。
- 立方体反射尺寸
立方体反射贴图的尺寸。
- 漫射遮蔽 (AO)
每个辐照度样本还存储一个阴影图, 用于尽可能地减少间接光泄漏。此参数定义此阴影贴图的大小。
- 辐射平滑
平滑辐照度插值，但引入光出血。辐照度能见度项可以使照明不在某些表面上平滑地插值。这减轻插值了权重。
- 钳制光泽
钳制像素强度，以减少反射立方体内光泽反射的噪点（0为禁用）。
- 过滤品质
在立方体贴图过滤期间增大采样以删除瑕疵。目前只对立方体贴图有效。
显示#
- 立方体反射尺寸
在3D视图中直接显示缓存中存在的反射立方体贴图。
- 辐射尺寸
在3D视图中显示在缓存中存在的辐照度样本。
Note
缓存数据显示仅适用于3D视图，并且仅当视图在材质预览或渲染模式下使用世界光照时才能看到。