采样

EEVEE 使用称为时间性抗锯齿（TAA）的过程来减少锯齿。由于 TAA 是基于样本，因此样本越多，以性能为代价就会减少锯齿。

参考

面板:

渲染 ‣ 采样

视图

采样

在3D视图中使用的样本数。当设置样本数为零时，3D视图中将会不断采样。

时序重投影

移动视图或者播放动画期间降低噪点。可能会留下一些重影。

抖动阴影

Enable jittered shadows on the viewport. Jittered shadows are always enabled for final renders. This also affects shadows casted by transparent shadows.

渲染

采样

在最终渲染中使用的样本数。

阴影

光线数量

每个光源需要追踪的光线数量。数值越高，由随机阴影采样引起的噪点就越少。

步数 (阶梯)

每条阴影光线对应的阴影贴图采样数。步数越高，阴影越柔和，但计算开销也越大。

体积阴影

体积物体周围的近似光吸收。这会使体积物体更不容易透光。这是一个非常消耗资源的选项，并有局限性。

步数 (阶梯)

计算体积阴影的步数。

See also

体积限制。

分辨率

阴影贴图的分辨率百分比。

高级

光照阈值

光源对照明产生影响所需的最小光强。用于计算切断光源影响的距离。数值越低，性能越好。

See also

自定义距离会覆盖此设置。