采样#
EEVEE使用称为时间性抗锯齿（TAA）的过程来减少 锯齿。由于TAA是基于样本，因此样本越多，以性能为代价就会减少锯齿。
参考
- 面板:
视图#
- 采样
在3D视图中使用的样本数。当设置样本数为零时，3D视图中将会不断采样。
- 时序重投影
移动视图或者播放动画期间降低噪点。可能会留下一些重影。
- 抖动阴影
Enable jittered shadows on the viewport. Jittered shadows are always enabled for final renders. This also affects shadows casted by transparent shadows.
渲染#
- 采样
在最终渲染中使用的样本数。
阴影#
- 光线数量
Number of rays to trace for each light. Higher values reduces the noise caused by random shadow sampling.
- 步数 (阶梯)
Number of shadow map sample per shadow ray. Higher step count results in softer shadows but have a higher cost.
- 体积阴影
体积物体周围的近似光吸收。这会使体积物体更不容易透光。这是一个非常消耗资源的选项，并有局限性。
- 步数 (阶梯)
计算体积阴影的步数。
See also
体积限制。
- 分辨率
阴影贴图的分辨率百分比。
高级#
- 光照阈值
Minimum light intensity for a light to contribute to the lighting. Used to compute the distance at which to cut-off lights influence. Lower values improve performance.
See also
自定义距离 会覆盖此设置。