渲染烘焙

参考

面板:渲染 ‣ 烘培

Cycles shaders and lighting can be baked to image textures. This has a few different purposes, most commonly:

  • Baking textures like base color or normal maps for export to game engines.
  • Baking ambient occlusion or procedural textures, as a base for texture painting or further edits.
  • Creating light maps to provide global illumination or speed up rendering in games.

Setup

Baking requires a mesh to have a UV map, and an image texture node with an image to be baked to. The active (last selected) image texture node is used as the baking target.

在强光/阴影解决方案中使用渲染烘焙,例如AO或来自平面光源的柔和阴影。如果为主要物体烘焙AO,则不必为完整渲染启用它,从而节省渲染时间。

在Cycles中使用渲染设置(采样、反弹、……)进行烘焙。因此烘焙纹理的品质将会和场景的渲染一致。

Settings

Bake Types

合成结果

烘焙SSS之外的所有材质、纹理和灯光,特殊效果。

通过相应组合可以单独切换以形成最终地图。

环境光遮蔽
烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽,忽略场景中的其他灯光。
阴影
烘焙阴影及灯光。
法线

烘焙不同空间的法线。

法线空间

法线可以在不同的空间中烘培:

对象空间
对象坐标中的法线,与对象变换无关,但取决于变形。
切线空间
切线空间坐标中的法线,与对象转换和变形无关。这是默认设置,在大多数情况下都是正确的选择,因为法线贴图也可以用于动画对象。
Swizzle
轴要烘培成红色,绿色和蓝色的通道。

在材质中你也可以选择相同的空间坐标,也就是图像纹理选项中,法线映射设置的下面。为了得到的正确的结果,这里的设置应该和烘焙中的设置相同。

UV
仅烘焙材质的颜色和纹理,不含有着色信息。
自发光
烘焙自发光,或是材质的辉光颜色。
环境光
烘焙从物体中心所观察到的环境。
漫射,光泽,传递,表面细分

烘培材质的漫射,光泽,传递和表面细分的通道。

  • 如果只选择了颜色,则将获得颜色通道,该颜色是曲面的属性,与采样细化无关。
  • 如果未选择颜色,则会以灰度方式获得直接或间接贡献。
  • 如果选择了颜色和直接或间接的颜色,则可以获得直接和或间接贡献的颜色。

Selected to Active

所选物体>主控物体
烘焙所选物体的着色到活动物体。光线会从外面的低模物体投射到内部的高模物体。倘若高模物体没能被低模物体完全包裹,你可以通过调节光线距离或是罩体挤出(取决于你是否使用罩体)来调节光线的起点。对于更多的控制,你可以通过指定罩体物体来实现。

Note

内存用量

每一个用于烘培的物体都会占用一定的CPU和内存,为了避免内存不足而造成的崩溃,在烘焙之前,可以先将高模物体进行合并。渲染中的分块设置,也会影响到内存的使用。比如分的块越大,CPU占用的越少,而内存则会占用的更多(不管是CPU,还是GPU)。

罩体
光线会从罩体投射到活动的物体,罩体是指从低模通过手动(指定要用的物体)或自动(调整光线距离)创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体,光线会依循网格的法线,这在边线的地方会产生一些小的瑕疵,为了避免这些瑕疵,可以围着边线添加额外的循环边,在烘焙平面时,这或许是一个不错的方法。
光线距离
在使用所选物体>活动物体时,控制光线向内投射的距离。该项仅在不使用罩体时可用。
罩体偏移
在使用 所选物体->活动物体 时,控制光线向内投射的距离。向内投射的光线会由不含有边线分割修改器版本的活动物体发出。当然强制分割(如应用掉边线分割修改器)也不行。因为这些都会导致边线处的法线变得不为平滑。
罩体

指定作为 罩体 的物体,以此替代活动物体的罩体挤出。

Note

当挤出低模不能获得良好的结果时,你可以创建一个低模的副本,并将其做成 罩体 。而且两者要有相同的 拓扑 才行(相同的面数和面顺序)。

Output

边距
烘焙的结果将会超出每一个UV块的边界,以此来柔和纹理中的接缝。
清空
选择该项时,在渲染烘焙前会先清空图像。