渲染烘焙

Cycles着色器和灯光照明可以烘焙到图像纹理。这有几个不同的用途,最常见的是:

  • 烘焙纹理,如基础颜色或法线贴图,用于导出到游戏引擎。

  • 烘焙环境光遮蔽或程序纹理,作为纹理绘制或进一步编辑的基础。

  • 创建光照贴图以提供全局照明或加快游戏中的渲染速度。

安装

烘焙要求网格有一个UV贴图,以及一个颜色属性或图像纹理节点,并有一个要烘焙的图像。 活动 图像纹理 节点或 颜色属性 被用来作为烘焙目标。

在密集的光线/阴影解决方案中使用渲染烘焙,例如AO或来自区域灯的软阴影。如果你为主要物体烘焙AO,你就不必在整个渲染过程中启用它,从而节省渲染时间。Cycles使用渲染设置(sample, bounces, ...)进行烘焙。这样一来,烘焙出来的纹理的质量应该和你从渲染场景中得到的结果一致。

设置

参考

面板:

渲染 ‣ 烘焙

烘焙

执行烘焙操作。

按多级精度进行烘焙

直接从多用途对象烘焙。

烘焙类型

烘焙通道的类型

合成结果:

烘焙除镜面之外的所有材质、纹理和光照。对合并后的通道有贡献的通道可以被单独切换,以形成最终的贴图。

环境光遮蔽:

烘焙世界面板中指定的环境光遮蔽,忽略场景中的其他灯光。

阴影:

烘焙阴影及灯光。

法向:

烘焙不同空间的法线。

UV:

映射 UV 坐标,用于表示纹理映射至网格上的位置。这通过图像的红色和绿色通道表示,蓝色通道的编码为常值1,但不保存任何信息。

粗糙度:

烘焙材料的粗糙度通道。

自发光:

烘焙自发光,或是材质的辉光颜色。

环境:

根据从世界原点(0, 0, 0)投射的光线所看到的,将环境(即为场景定义的世界表面着色器)烘焙到选定的物体上。

漫反射:

烘焙材质的漫射通道。

光泽:

烘焙材料的光泽度。

透射:

烘焙自发光,或是材质的辉光颜色。

观察方位

反射射线方向的来源。

表面上方:

从表面上方投射光线。

活动摄像机:

使用活动摄像机的位置投射光线。

影响

合成结果

光照
直接光

增加直接的照明度。

间接光

添加间接照明贡献。

贡献
漫反射

增加漫反射度。

光泽

添加光泽度。

透射

增加传输贡献。

环境光遮蔽

添加环境光屏蔽贡献。

自发光

增加发光度。

散射、光泽度、透射

贡献
直接光

参见 上文

间接光

参见 上文

颜色

添加环境光屏蔽贡献。

  • 如果仅选择了 "颜色" ,您将获得通过颜色,这是表面的一个属性,与采样细化无关。

  • 如果未选择 "颜色" ,您将获得灰度的直接和/或间接贡献。

  • 如果选择了 颜色直接间接 ,则直接和/或间接贡献将着色。

法向

空间

法线可以在不同的空间中烘焙:

对于材质,可以在现有 法线贴图 设置旁边的图像纹理选项中选择相同的空间。为了获得正确的结果,此处的设置应与用于烘焙的设置相匹配。

物体:

对象坐标中的法线,与对象变换无关,但取决于变形。

切向(正切):

切线空间坐标中的法线,与对象转换和变形无关。这是默认设置,在大多数情况下都是正确的选择,因为法线贴图也可以用于动画对象。

斯威兹尔 R, G, B

轴要烘焙成红色,绿色和蓝色的通道。

所选物体 到 活动物体

将选定对象表面上的着色烘焙到活动对象。光线从低多边形物体向内投射到高多边形物体。如果高多边形对象不完全受低多边形对象的影响,则可以使用 最大光线距离 或*拉伸 (取决于您是否使用笼子)来调整光线起点。为了获得更多控制,您可以使用 笼子对象*。

Note

用于烘焙的每个对象都有一个 CPU 固定内存占用空间。为了避免因内存不足而崩溃,可以在烘焙过程之前将高多边形物体连接起来。

罩体

光线会从罩体投射到活动的物体,罩体是指从低模通过手动(指定要用的物体)或自动(调整光线距离)创建出来的膨胀版本。如果不使用罩体,光线会依循网格的法线,这在边线的地方会产生一些小的瑕疵,为了避免这些瑕疵,可以围着边线添加额外的循环边,在烘焙平面时,这或许是一个不错的方法。

罩式物体

指定作为 罩体 的物体,以此替代活动物体的罩体挤出。

罩体偏移

Distance to use for the inward ray cast when using Selected to Active and Cage. The inward rays are cast from a version of the active object with disabled Edge Split Modifiers. Hard splits (e.g. when the Edge Split Modifier is applied) should be avoided because they will lead to non-smooth normals around the edges.

Note

当拉伸的基础网格未产生良好的结果时,您可以创建基础网格的副本并将其修改为用作 。两个网格需要具有相同的 拓扑 (面数和面顺序)。

最大光线距离

使用 选定物体 到 活动物体 时用于向内光线投射的距离。射线距离仅在不使用 笼子 时可用。

输出

Target 目标

在哪里导出烘焙图。

图像纹理:

活动 图像纹理 节点相关的图像数据块。

清空图像

选择该项时,在渲染烘焙前会先清空图像。

颜色属性:

烘焙到活动网格上的 活动 颜色属性 层。注意,活动物体必须是网格,因为其他物体类型没有颜色属性。

边距

在对图像进行烘焙时,默认情况下会在UV "孤岛" 周围生成边缘。这对于避免由于纹理过滤和mipmap造成的UV接缝处的不连续是很重要的。

类型

生成边距的方法。

扩选:

通过重复边缘上的像素来扩展图像。

相邻面:

使用相邻面的像素跨越UV接缝来填充边际。

尺寸

边距的大小(以像素为单位)。